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金牌供应商第1年

Hubei Binrun Environmental Protection Technology Co., Ltd

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单级反渗透+DEI超纯水设备 (BR-2T)

专为中小规模电子、半导体、制药、实验室及工业超纯水需求设计,采用单级反渗透(RO)+电去离子(EDI)核心工艺,结合预处理、终端抛光及智能控制系统,可稳定生产电阻率≥15MΩ·cm的超纯水,满足GB/T 11446.1、ASTM D5127及ISO 13959标准。系统产水量2吨/小时,适用于对水质要求极高但用水量适中的场景,兼具经济性与可靠性。

详细信息

1. 预处理系统

2. 单级反渗透(RO)系统

3. 电去离子(EDI)模块

1. 后处理单元

2. 纯水储存与分配

PLC+触摸屏:

  • 功能:实时监控电导率、流量、压力、温度等参数,自动调节高压泵频率、阀门开度。

  • 人机界面:10英寸彩色触摸屏,显示工艺流程图、历史数据曲线、报警信息。

远程监控:

  • 接口:支持Modbus RTU/TCP协议,可通过4G/5G模块实现远程运维。

  • 数据存储:内置SSD存储≥3年运行数据,支持USB导出。

安全保护:

  • 阈值报警:电导率超标、压力异常、水位不足时声光报警并停机。

  • 权限管理:三级密码保护(操作员/工程师/管理员),操作日志可追溯。

关键技术参数

项目

技术规格

产水量

2吨/小时(25℃标准工况)

进水要求

电导率<300μS/cm,SDI<4,浊度<1 NTU,余氯<0.1ppm,硬度<100mg/L(以CaCO₃计)

出水水质

电阻率≥15MΩ·cm,TOC≤3ppb,微生物<1CFU/100mL,硅<1ppb,内毒素<0.03EU/mL

电源配置

380V/50Hz,三相五线制,功率≤15kW

材质标准

主管路:316L不锈钢;密封件:PTFE/硅橡胶;储罐:316L+电解抛光

回收率

70%-75%(可根据水质调整)

占地面积

≈8㎡(含预处理、RO、EDI、储罐)

创新设计亮点

变频供水控制:高压泵采用变频电机,根据用水量动态调节功率,节能率>30%。

能量回收:RO浓缩水回收至预处理环节,减少原水消耗约15%。

EDI免再生:无需酸碱化学品,减少危废处理费用及人工成本。

长寿命设计:RO膜寿命>3年,EDI模块>5年,紫外线灯管>1年。

模块化架构:预处理、RO、EDI单元独立分隔,便于后期增容或升级多级RO+EDI系统。

应用场景与效益分析

电子行业:半导体清洗、芯片制造、电镀液配制。

制药领域:注射用水预制备、原料药结晶、实验室分析试剂。

实验室:HPLC溶剂、质谱分析、细胞培养基配制。

工业超纯水:光伏清洗、液晶显示(LCD)、电力锅炉补给水。

1. 场地要求

2. 日常维护

终身技术服务:提供工艺优化、耗材选型指导及应急预案支持。

本2吨/小时单级反渗透+EDI超纯水设备通过高效预处理、RO深度脱盐及EDI连续去离子技术,实现了高性价比的超纯水制备。其模块化设计、智能化控制及低运维成本,可满足中小规模高端用水需求,是电子、制药、实验室等领域的理想选择。未来可通过整合AI预测性维护及物联网技术,进一步提升设备的可靠性与经济性。

年度巡检:工程师现场检测水质、校准仪表,出具系统健康报告。

备件供应:常用耗材(滤芯、O型圈)48小时内紧急发货。